ウェハ検査の常識を変える
ED は「Emerge Defect」の略で「欠陥が浮かび上がる」という意味です。
オプティテック社独自の光学系技術と画像処理技術をコラボさせることにより、これまで検査しても発見が難しかった欠陥を液晶モニター上に浮き上がらせます。深さ(Z方向)は ナノレベル、視野範囲(XY方向)はマクロ観察が可能となり、短時間で欠陥を検出することが可能になりました。
今まで目視では検査が困難であったシリコンウェーハ表面膜や基板上に生じる欠陥、スクラッチ・クラック・ディンプル・ウォーターマーク、スリップ、ソーマーク・ボイド・異物などを誰でも簡単且つ定量的に目視検査・評価することが可能になります。
また、ガラス・水晶・サファイア等の表面に残るナノサイズの微細な研磨痕・オレンジピール・スクラッチ・脈理・結晶欠陥等についても、目視による検査・評価が可能になり、表面粗さの管理・研磨条件の設定も可能で、蒸着後の歩留まりが確実に向上します。
また、オプションで人工知能(AI)・ディープラーニングによる画像検査機能を搭載することも可能です。
オプティテック社は、特殊光学系・特殊画像処理の新しい複合技術の開発により、これまで目視では確認しにくかった欠陥を可視化し、広い観察視野の中からナノレベルの高さの欠陥画像を浮かびあげることで、正確な目視検査・画像での数値化(オプション)を可能とし検査効率よく、正確性をUPしたシステム検査製品を提供します。